フォトマスク形状の非均一分割を検出するための方法および機器

专利摘要:
本発明の一実施形態は、所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された所与の形状の発生を検出する、システムを提供する。該システムは、所与の形状の分割形状インスタンス化を選択し、それと所与の形状の他の分割形状インスタンス化が比較される。比較過程の一部として、該システムは、選択した分割形状インスタンス化における少なくとも１つの基本形状に一致するマスクパターン記述における基本形状を含む、フィルタ処理したマスクパターン記述を生成する。次に、該システムは、所与の形状に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述からの第１の組の形状発生を識別し、所与の形状に一致する、マスクパターン記述からの第２の組の形状発生を識別する。次いで、該システムは、第１および第２の組の形状発生の間で排他的ＯＲ比較を行うことによって、第３の組の形状発生を生成する。
公开号:JP2011515711A
申请号:JP2011500855
申请日:2009-03-04
公开日:2011-05-19
发明作者:チー；ペン イェープ，；ジョン；ティー． ノガッチ，
申请人:シノプシス， インコーポレイテッドＳｙｎ０Ｐｓｙｓ， Ｉｎｃ．；
IPC主号:G03F1-08

专利说明:

[0001] 本発明は、概して、電子設計の自動化に関する。より具体的には、本発明は、所望の構成とは異なる構成の基本形状に分割された形状の発生を検出するための技法およびシステムに関する。]
背景技術

[0002] コンピュータ技術における急速な進歩は、主に、数千万ものデバイスを単一チップ上に集積することを可能にした半導体製造技術の向上に起因する。半導体製造過程の一部として、多数の半導体ウエハ上に所望のパターンを施すためにフォトマスクが使用される。したがって、フォトマスク上のプリントエラーが、多数の半導体ウエハ上に伝播し得るため、高品質フォトマスクのプリントは、半導体製造過程の重要なステップである。]
[0003] プリントフォトマスクの限界寸法（ＣＤ）変化は、フォトマスクの質の重要な尺度である。ＣＤ変化は、元のマスクパターン記述からのプリントフォトマスク上のパターンの測定偏差として定量化され得る。高品質のフォトマスクを生成するために、マスクパターン記述は、通常、最小アスペクト比、最小数のスライバ（すなわち、一方または両方の寸法が小さい形状）、および最小数の端スライバ（すなわち、他の形状の間に挟まれていないスライバ）を有する最小数の形状を含む。]
発明が解決しようとする課題

[0004] 可変成形ビーム（ＶＳＢ）マスク製造機は、限られたレパートリーの幾何学形状を、通常、長方形および台形で構成されるフォトマスク上に書き込むことができるにすぎない。マスクパターン記述は、マスクデータ準備（ＭＤＰ）分割ソフトウェアを使用して処理され、該ソフトウェアは、大規模で複雑な形状発生を、マスク製造機が再生可能な基本形状のみを含む分割インスタンス化に分割する。複雑な形状の多数の発生が、マスクパターン記述上に存在する場合、ＭＤＰ分割ソフトウェアは、異なる方法で、複雑な形状の個別の発生を分割し得る。複雑な形状の発生全体のこの一貫性のない分割は、複雑な形状のフォトマスクプリントエラーの可能性を増加し得、フォトマスクプリントエラーの結果として、フォトマスク上の不要なＣＤ変化をもたらし得る。]
課題を解決するための手段

[0005] 本発明の一実施形態は、所望の構成とは異なる構成の基本形状に分割された所与の形状の発生を検出する方法および装置を含むシステムを提供する。ＶＳＢマスク製造機のマスクパターン記述を準備するために、ＭＤＰ分割ソフトウェアは、特定の構成で配設されている一組の基本形状を含む所与の形状を分割形状インスタンス化に分割する。マスクパターン記述は、所与の形状の複数発生を有し得、ＭＤＰ分割ソフトウェアが、これらの発生を一貫した構成の基本形状に分割しない可能性がある。]
[0006] いくつかの実施形態では、システムは、所与の形状の分割形状インスタンス化を選択する。選択した分割形状インスタンス化は、所与の形状のプロトタイプインスタンス化として使用することができ、所与の形状の他の分割形状インスタンス化と比較される。比較過程の一部として、システムは、選択した分割形状インスタンス化に基づいて、フィルタ処理したマスクパターン記述を生成する。フィルタ処理したマスクパターン記述は、選択した分割形状インスタンス化における少なくとも１つの基本形状に一致する、マスクパターン記述における基本形状を含む。次に、システムは、所与の形状に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述からの形状発生を含む第１の組の形状発生、および所与の形状に一致する、マスクパターン記述からの形状発生を含む第２の組の形状発生、という２組の形状発生を識別する。]
[0007] いくつかの実施形態では、システムは、選択した分割形状インスタンス化に基づいて、選択規則を最初に生成することによって、フィルタ処理したマスクパターン記述を生成し、選択規則は、寸法情報を使用して選択した分割形状インスタンス化の基本形状の識別を助ける。次に、システムは、選択規則をマスクパターン記述に適用し、フィルタ処理したマスクパターン記述を取得する。]
[0008] いくつかの実施形態では、システムは、所与の形状に基づいて、製造規則チェック（ＭＲＣ）ツールのための規則を最初に生成することによって、２組の形状発生を識別する。次に、システムは、該規則をフィルタ処理したマスクパターン記述に適用し、所与の形状に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述における第１の組の形状発生を識別する。次に、システムは、該規則をマスクパターン記述に適用し、所与の形状に一致する、マスクパターン記述における第２の組の形状発生を識別する。]
[0009] いくつかの実施形態では、システムは、２組の形状発生に関して比較操作を行い、第３の組の形状発生を生成して、選択した分割形状インスタンス化とは異なって分割された第１の形状の発生を識別するステップを容易にする。第３の組の形状発生は、第２の組の形状発生には存在しない第１の組の形状発生からの形状発生を含み、および第１の組の形状発生には存在しない第２の組の形状発生からの形状発生を含む。]
[0010] いくつかの実施形態では、システムは、第３の組の形状発生のグラフィック表示をマスクパターン記述のグラフィック表示で重ね合わせて、選択した分割形状インスタンス化とは異なって分割されたマスクパターン記述における形状発生を示す。]
[0011] いくつかの実施形態では、システムは、第１の形状がマスクパターン記述においてどれほど均一に分割されたかを示す指標を生成する。該指標は、第３の組の形状発生における形状発生の数、または第３の組の形状発生において対応する形状発生を有する、第２の組の形状発生における形状発生の割合であり得る。]
図面の簡単な説明

[0012] 図１Ａは、本発明の実施形態に従う形状発生を示す。
図１Ｂは、本発明の実施形態に従う分割形状インスタンス化を示す。
図２Ａ〜２Ｂは、本発明の実施形態に従う２つの分割形状インスタンス化を示す。
図２Ａ〜２Ｂは、本発明の実施形態に従う２つの分割形状インスタンス化を示す。
図２Ｃ〜２Ｄは、本発明の実施形態に従う分割形状インスタンス化の２つの可能なプリントフォトマスクパターンを示す。
図２Ｃ〜２Ｄは、本発明の実施形態に従う分割形状インスタンス化の２つの可能なプリントフォトマスクパターンを示す。
図３は、本発明の実施形態に従う均一性チェッカーを示す。
図４は、本発明の実施形態に従う均一性チェッカーの典型的な実装を示す。
図５は、本発明の実施形態に従うマスクパターン記述のグラフィック表示を示す。
図６は、本発明の実施形態に従うＳＥＬＥＣＴコマンドを生成するための過程、および製造規則チェック（ＭＲＣ）ツールのための規則を生成する過程を示すフローチャートを提示する。
図７は、本発明の実施形態に従うフィルタ処理したマスクパターン記述を示す。
図８Ａは、本発明の実施形態に従うマスク発生出力のグラフィック表示を示す。
図８Ｂは、本発明の実施形態に従う一致インスタンス化出力のグラフィック表示を示す。
図８Ｃは、本発明の実施形態に従う比較結果のグラフィック表示を示す。
図８Ｄは、本発明の実施形態に従うマスクパターン記述上の非均一性形状発生のグラフィックオーバーレイを示す。
図９は、本発明の実施形態に従う所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された、形状の発生を検出するための過程を示すフローチャートを提示する。
図１０は、本発明の実施形態に従うフィルタ処理したマスクパターン記述を生成するための過程を示すフローチャートを提示する。
図１１は、本発明の実施形態に従う第１の形状に一致する、マスクパターン記述およびフィルタ処理したマスクパターン記述における形状発生を識別するための過程を示すフローチャートを提示する。
図１２は、本発明の実施形態に従う所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された形状の発生を検出するステップを容易にする、典型的なコンピュータシステムを示す。] 図１０ 図１１ 図１２ 図１Ａ 図１Ｂ 図２Ａ 図２Ｂ 図２Ｃ 図２Ｄ 図３
実施例

[0013] 表１は、本発明の実施形態に従う基本形状の座標をＳＥＬＥＣＴ規則に変換するときに使用されるスクリプトの典型的な実装を提示する。]
[0014] 以下の説明は、いずれの当業者も、本発明を行い、使用できるようにするために提示され、特定の用途およびその要件の文脈において提供される。開示される実施形態に対する種々の修正は、当業者に容易に明らかとなり、本明細書に定義される一般的原理は、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、他の実施形態ならびに用途に適用され得る。したがって、本発明は、示される実施形態に限定されないが、本明細書に開示する原則および特徴に従う最大範囲に一致するものである。]
[0015] 本詳細な説明に記載するデータ構造およびコードは、通常、コンピュータシステムによって使用するためのコードおよび／またはデータを格納できる任意のデバイスまたは媒体であり得る、コンピュータ可読記憶媒体に格納される。コンピュータ可読記憶媒体は、揮発性メモリ、非揮発性メモリ、ディスクドライブ、磁気テープ、ＣＤ（コンパクトディスク）、ＤＶＤ（デジタル多用途ディスクまたはデジタルビデオディスク）、または現在知られているか、または今後開発されるコンピュータ可読媒体を格納できる他の媒体を含むが、これらに限定されない。]
[0016] 詳細な説明の節に記載する方法および過程は、コードおよび／またはデータとして具体化され得、上述のとおりコンピュータ可読記憶媒体に格納され得る。コンピュータシステムが、コンピュータ可読記憶媒体上に格納されるコードおよび／またはデータを読み出して実行するとき、コンピュータシステムは、データ構造として具体化され、コンピュータ可読記憶媒体内に格納される方法および過程を実行する。]
[0017] さらに、以下に説明される方法および過程は、ハードウェアモジュールに含まれてもよい。例えば、該ハードウェアモジュールは、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）チップ、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、および現在知られているか、または今後開発される他のプログラマブル論理デバイスを含み得るが、これらに限定されない。ハードウェアモジュールが起動されると、ハードウェアモジュールは、ハードウェアモジュール内に含まれる方法および過程を実行する。]
[0018] （概要）
集積化マイクロチップを製造するために、コンピュータ支援設計（ＣＡＤ）ソフトウェアを使用して、マイクロチップのためのマスクパターン記述を生成する。半導体デバイスのためのフォトマスクがされ得る前に、マスクデータ準備（ＭＤＰ）分割ソフトウェアを使用して、マスクパターン記述を生成し、マスクパターンを基本形状の集合に分割する。これらの基本形状は、可変成形ビーム（ＶＳＢ）マスク製造機が再生可能な基本形状であり、通常は台形に限定される。]
[0019] 図１Ａは、本発明の実施形態に従う典型的な形状発生１００を示す。形状発生は、フォトマスク上に１つ以上の多角形を含み得、通常は、ＶＳＢマスク製造機のための多数の基本形状に分割される。図１Ｂは、本発明の実施形態に従う形状発生１００に対応する、典型的な分割形状インスタンス化１２０を示す。分割形状インスタンス化は、特定構成に配設された一組の基本形状に分割される形状発生である。分割形状インスタンス化１２０は、ともに形状発生１００を形成する基本形状１２２〜１３０を含む。] 図１Ａ 図１Ｂ
[0020] ＶＳＢマスク製造機は、所与の形状の多数の発生の分割が、マスクパターン記述全体で均一である場合に、より高品質のフォトマスクを生成する。すなわち、マスクパターン記述全体で反復する形状のすべての形状発生は、同一集合および構成の基本形状を含む必要がある。残念ながら、通常のＭＤＰ分割ソフトウェアは、すべての形状発生を同様に処理しないため、２つの類似する形状発生が、異なる集合および構成の基本形状を含むことになり得る（すなわち、２つの分割形状インスタンス化が非均一である）。]
[0021] 図２Ａ〜２Ｂは、本発明の実施形態に従う２つの分割形状インスタンス化を示す。分割形状インスタンス化２００および分割形状インスタンス化２１０は、共通の形状プロトタイプに対応するが、異なる基本形状構成を含む。例えば、分割形状インスタンス化２００は、限界寸法２０２を１つの基本形状で実装するが、分割形状インスタンス化２１０は、対応する限界寸法２１２を２つの基本形状で実装する。さらに、分割形状インスタンス化２００は、限界寸法２０４を３つの基本形状で実装するが、分割形状インスタンス化２１０は、対応する限界寸法２１４を１つの基本形状で実装する。] 図２Ａ 図２Ｂ
[0022] 図２Ｃ〜２Ｄは、本発明の実施形態に従う分割形状インスタンス化に可能な２つのプリントフォトマスクパターン２２０および２３０を示す。プリントフォトマスクパターン２２０および２３０の変化は、ＶＳＢマスク製造機によるプリントエラーに起因し得る影響を示す。プリントフォトマスクパターン２２０は、左方移動でプリントされ、それによって基本形状２２４と基本形状２２６との間に重複をもたらし、所望の限界寸法２２３より小さい寸法２２２を生成する、基本形状２２６を示す。反対に、プリントフォトマスクパターン２３０は、右方シフトでプリントされ、それによって基本形状２３４と基本形状２３６との間にギャップをもたらし、所望の限界寸法２３３より大きい寸法２３２を生成する、基本形状２３６を示す。] 図２Ｃ 図２Ｄ
[0023] ＭＤＰ分割ソフトウェアは、パターンを単純台形に分割する方法を決定することができ、類似する形状発生が同一方法で分割される場合に、限界寸法の変化を最小限にすることができる。本発明の実施形態は、マスクパターン記述において、類似する形状発生の非均一な分割形状インスタンス化を検出するための自動システムを提供する。いくつかの実施形態では、本システムを使用して、ＭＤＰ分割ソフトウェアに関する回帰テストを行うことができる。他の実施形態では、本システムを使用して、多数の類似する形状発生（例えば、メモリデバイス）を含む、マスクパターン記述の質を決定することができる。]
[0024] （均一性チェッカー）
図３は、本発明の一実施形態に従う均一性チェッカー３００のブロック図を示す。均一性チェッカー３００は、マスクパターン記述において類似する形状発生の非均一な分割形状インスタンス化を検出することができる。均一性チェッカー３００は、基本形状フィルタ３０２、プロトタイプ形状フィルタ３０４、コンパレータ機構３０６、およびオーバーレイ機構３０８を含む。] 図３
[0025] 動作中、均一性チェッカー３００は、プロトタイプインスタンス化３１０およびマスクパターン記述３１２を入力として取り、グラフィックオーバーレイ３２２および非均一性レベル３２４を生成することができる。プロトタイプインスタンス化３１０は、マスクパターン記述における分割形状インスタンス化である。上述のとおり、分割形状インスタンス化は、形状発生の分割を表し、一組の基本構成を特定構成で含む。マスクパターン記述３１２は、分割形状インスタンス化の集合である。]
[0026] いくつかの実施形態では、基本形状フィルタ３０２は、プロトタイプインスタンス化３１０およびマスクパターン記述３１２からフィルタ処理したマスクパターン記述３１４を生成することができる。そうする中で、基本形状フィルタ３０２は、プロトタイプインスタンス化３１０の一組の基本形状における少なくとも１つの基本形状に一致する、マスクパターン記述３１２の基本形状を選択し、選択した基本形状を含む、フィルタ処理したマスクパターン記述３１４を生成する。]
[0027] いくつかの実施形態では、プロトタイプ形状フィルタ３０４は、フィルタ処理したマスクパターン記述３１４およびプロトタイプインスタンス化３１０から一致するインスタンス化３１６を生成することができる。そうする中で、プロトタイプ形状フィルタ３０４は、プロトタイプインスタンス化３１０に関連した形状発生に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述３１４から一組の形状発生を識別し、識別した一組の形状発生を含む一致するインスタンス化３１６を生成する。]
[0028] いくつかの実施形態では、プロトタイプ形状フィルタ３０４は、マスクパターン記述３１２およびプロトタイプインスタンス化３１０から一致するインスタンス化３１８を生成することもできる。そうする中で、プロトタイプ形状フィルタ３０４は、プロトタイプインスタンス化３１０に関連した形状発生に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述３１２から一組の形状発生を識別し、識別した一組の形状発生を含む一致するインスタンス化３１８を生成する。]
[0029] いくつかの実施形態では、コンパレータ機構３０６は、プロトタイプインスタンス化３１０とは異なって分割されたマスクパターン記述３１２の形状発生を含む、比較結果３２０を生成することができる。そうする中で、コンパレータ機構３０６は、一致する発生３１８に存在しない一致するインスタンス化３１６から形状発生を識別し、一致するインスタンス化３１６に存在しない一致する発生３１８から形状発生を識別して、識別した一組の形状発生を含む比較結果３２０を生成する。]
[0030] いくつかの実施形態では、オーバーレイ機構３０８は、プロトタイプインスタンス化３１０とは異なって分割されたマスクパターン記述３１２において、形状発生を識別するために使用できる、グラフィックオーバーレイ３２２を生成することができる。そうするために、オーバーレイ機構３０８は、比較結果３２０のグラフィック表示をマスクパターン記述３１２のグラフィック表示で重ね合わせる。]
[0031] いくつかの実施形態では、オーバーレイ機構３０８は、プロトタイプインスタンス化３１０に類似する形状発生が、マスクパターン記述３１２においてどれほど均一に分割されたかを示す、非均一性レベル３２４を生成することができる。これらの実施形態のいくつかの変形例では、非均一性レベル３２４は、比較結果３２０における形状発生の数である。いくつかの他の変形例では、非均一性レベル３２４は、比較結果３２０において対応する形状発生を有する、マスクパターン記述３１２における形状発生の割合である。]
[0032] 図４は、本発明の一実施形態に従う均一性チェッカー４００の典型的な実装を提示する。均一性チェッカー４００は、Ｓｙｎｏｐｓｙｓ，Ｉｎｃ．のコンピュータ支援転写システム（ＣＡＴＳ）マスクデータ準備ソフトウェアを使用して、マスクパターン記述における基本形状を識別する。さらに、均一性チェッカー４００は、ＭＲＣツールを使用して、マスクパターン記述における形状発生を識別する。均一性チェッカー４００は、ＣＡＴＳコマンドジェネレータ４０２およびＣＡＴＳ ＳＥＬＥＣＴ操作４０４を使用して、基本形状フィルタ４０１を実装し、ＭＲＣ規則ジェネレータ４０６およびＭＲＣ機構４０８を使用して、プロトタイプ形状フィルタ４０５を実装し、コンパレータ機構４１０およびオーバーレイ機構４１２をさらに含む。] 図４
[0033] 動作中、均一性チェッカー４００は、プロトタイプインスタンス化４１４およびマスクパターン記述４１６を入力として取り、多数のグラフィックオーバーレイ４３０および非均一性レベル４３２を生成することができる。プロトタイプインスタンス化４１４は、マスクパターン記述における分割形状インスタンス化であり、分割形状インスタンス化は、形状発生の分割を表し、一組の基本形状を特定構成で含む。さらに、マスクパターン記述４１６は、分割形状インスタンス化の集合である。]
[0034] いくつかの実施形態では、ＣＡＴＳコマンドジェネレータ４０２は、プロトタイプインスタンス化４１４を使用して、ＣＡＴＳ ＳＥＬＥＣＴ操作４０４のためのコマンド４１８を生成する。ＣＡＴＳ ＳＥＬＥＣＴ操作４０４は、コマンド４１８を使用して、マスクパターン記述４１６からフィルタ処理したマスクパターン記述４２０を生成する。そうする中で、ＣＡＴＳ ＳＥＬＥＣＴ操作４０４は、プロトタイプインスタンス化４１４の一組の基本形状において、少なくとも１つの基本形状に一致する、マスクパターン記述４１６における基本形状を選択し、選択した基本形状を含むフィルタ処理したマスクパターン記述４２０を生成する。]
[0035] いくつかの実施形態では、ＭＲＣ規則ジェネレータ４０６は、プロトタイプインスタンス化４１４を使用して、ＭＲＣ機構４０８のための規則４２２を生成する。ＭＲＣ機構４０８は、規則４２２を使用して、マスクパターン記述４１６から一致する発生４２４を生成する。そうする中で、ＭＲＣ機構４０８は、プロトタイプインスタンス化４１４に関連した形状発生に一致する、マスクパターン記述４１６から一組の形状発生を識別し、識別した一組の形状発生を含む一致する発生４２４を生成する。]
[0036] いくつかの実施形態では、ＭＲＣ機構４０８は、規則４２２を使用して、フィルタ処理したマスクパターン記述４２０から一致するインスタンス化４２６を生成することもできる。そうする中で、ＭＲＣ機構４０８は、プロトタイプインスタンス化４１４に関連した形状発生に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述４２０から一組の形状発生を識別し、識別した一組の形状発生を含む一致するインスタンス化４２６を生成する。]
[0037] いくつかの実施形態では、コンパレータ機構４１０は、プロトタイプインスタンス化４１４とは異なって分割されたマスクパターン記述４１６の形状発生を含む、比較結果４２８を生成することができる。そうする中で、コンパレータ機構４１０は、一致する発生４２４には存在しない一致するインスタンス化４２６から形状発生を識別し、一致するインスタンス化４２６には存在しない一致する発生４２４から形状発生を識別し、識別した一組の形状発生を含む比較結果４２８を生成する。]
[0038] いくつかの実施形態では、オーバーレイ機構４１２は、プロトタイプインスタンス化４１４とは異なって分割されたマスクパターン記述４１６における形状発生を識別するために使用できるグラフィックオーバーレイ４３０を生成することができる。そうするために、オーバーレイ機構４１２は、比較結果４２８のグラフィック表示をマスクパターン記述４１６のグラフィック表示上に重ね合わせる。]
[0039] いくつかの実施形態では、オーバーレイ機構４１２は、プロトタイプインスタンス化４１４に類似する形状発生が、マスクパターン記述４１６においてどれほど均一に分割されたかを示す、非均一性レベル４３２を生成することができる。これらの実施形態に関するいくつかの変形例では、非均一性レベル４３２は、比較結果４２８における形状発生の数である。いくつかの他の変形例では、非均一性レベル４３２は、比較結果４２８において対応する形状発生を有する、マスクパターン記述４１６における形状発生の割合である。]
[0040] （座標抽出および選択規則のフィルタリング）
図５は、本発明の一実施形態に従うマスクパターン記述５００の典型的なグラフィック表示を提示する。マスクパターン記述５００は、マスクパターン記述５００全体で、種々の配向で反復する、形状の多数の発生を含む。均一性チェッカーは、これらの形状発生の分割をプロトタイプインスタンス化５０４と比較し、プロトタイプインスタンス化５０４とは異なって分割された任意の形状発生を識別する。いくつかの実施形態では、均一性チェッカーは、プロトタイプインスタンス化５０４のための選択５０２を自動的に決定することができる。他の実施形態では、ユーザが、プロトタイプインスタンス化５０４のための選択５０２を手動で特定することができる。一実施形態では、選択５０２は、マスクパターン記述５００からの１つ以上の基本形状を含むことができ、選択した基本形状を使用して、プロトタイプインスタンス化５０４を定義する。] 図５
[0041] いくつかの実施形態では、プロトタイプインスタンス化５０４における基本形状の座標情報を抽出して、選択規則およびコマンドを作成することができる。一実施形態では、選択した形状の座標御情報に関するテキスト記述を生成することができる。選択したプロトタイプインスタンス化の座標に関するテキスト記述の典型的な説明は、以下のとおりである。
ｘｂ：５７．３２ ｙｂ：４１．７４ ｘｔ：５８．１２ ｙｔ：４１．９４
ｘｂ：５７．３２ ｙｂ：４１．９４ ｘｔ：５７．５２ ｙｔ：４２．７４
ｘｂ：５７．３２ ｙｂ：４２．７４ ｘｔ：５８．１２ ｙｔ：４２．９４
ｘｂ：５７．９２ ｙｂ：４１．９４ ｘｔ：５８．１２ ｙｔ：４２．７４
本実施例では、テキスト記述は、プロトタイプインスタンス化５０４の各基本形状の左下および右上座標を表し、ｘｂ、ｙｂは左下座標を表し、ｘｔ、ｙｔは右上座標を表す。]
[0042] 一実施形態では、プロトタイプインスタンス化５０４の基本形状の座標情報を抽出し、分割ソフトウェア（例えば、ＣＡＴＳ）を使用して、選択規則に変換することができる。プロトタイプインスタンス化５０４を選択し、プロトタイプインスタンス化５０４の基本形状の座標を抽出するための操作は、ＣＡＴＳを使用して、以下のとおり実行することができる。
（１）ユーザが、プロトタイプインスタンス化５０４の上で選択ボックスをドラッグすると、「ＳＥＬＥＣＴ ＰＲＩＭＡＲＹ １ ＷＩＴＨＩＮ」コマンドを発行することができる。
（２）次に、「ＯＵＴＰＵＴ ｐｒｏｔｏｔｙｐｅ＿０１．ｃｆｌｔ」コマンドを発行して、一時出力ファイル名を示すことができる。
（３）次に、「ＤＯ」コマンドを発行して、プロトタイプインスタンス化５０４上で分割を実行し、選択したプロトタイプインスタンス化５０４の数字を分離することができる。
（４）次に、「ＳＷＩＴＣＨ」コマンドを発行して、分割関連を変更することができる。
（５）次に、「ＣＯＰＹ ＯＵＴＰＵＴ」コマンドを発行して、作成したばかりの一時ファイルを入力することができる。
（６）次に、「ＲＥＣＯＲＤＦＩＬＥ ｐｒｏｔｏ．ｔｘｔ」コマンドを発行して、次のコマンドの出力を捕捉することができる。
（７）次に、「ＦＩＧＵＲＥＳ」コマンドを発行して、プロトタイプインスタンス化の数字をテキストとして表示することができる。より具体的には、「ＦＩＧＵＲＥＳ」コマンドは、選択したインスタンス化の長方形の頂点に関するテキスト記述を示す。次に、本テキスト記述を、座標を選択規則（「ＳＥＬＥＣＴ」コマンド）に変換するために使用され得る「ａｗｋ」スクリプト（表１を参照）に対する入力として使用することができる。
（８）次に、「ＲＥＣＯＲＤＦＩＬＥ ＶＯＩＤ」を使用して、出力捕捉を終了してもよい。]
[0043] 表１は、本発明の実施形態に従って、基本形状座標をＳＥＬＥＣＴ規則に変換するときに使用される、スクリプトの典型的な実装を提示する。スクリプトは、基本形状の左下および右上座標セット（すなわち、それぞれｘｂ、ｙｂおよびｘｔ、ｙｔ）を解析し、基本形状の高さおよび幅を計算することができる。本典型的なスクリプトでは、「ｍａｘｈｗ」は、基本形状の最大の高さまたは幅を意味し、「ｍｉｎｈｗ」は、基本形状の最小の高さまたは幅を意味する。]
[0044] 図６は、本発明の実施形態に従って、ＣＡＴＳ ＳＥＬＥＣＴ操作のためのコマンドを生成する過程、およびＭＲＣツールの規則を生成するための過程を示す、フローチャートを提示する。ＣＡＴＳコマンドジェネレータ６１０は、プロトタイプインスタンス化６０２の基本形状６０４〜６０６を使用して、基本形状６０４〜６０６に一致する、マスクパターン記述において基本形状を識別するために均一性チェッカーによって使用される、ＳＥＬＥＣＴコマンド６１２〜６１３を生成する。いくつかの実施形態では、ＣＡＴＳコマンドジェネレータ６１０は、基本形状の最小および最大寸法に基づいて、ＳＥＬＥＣＴコマンド６１２を生成する（例えば、表１に提示される「ｍｉｎｈｗ」および「ｍａｘｈｗ」寸法値）。例えば、基本形状６０４を選択するためのＳＥＬＥＣＴコマンド６１２は、以下のとおり実装することができる。
ＳＥＬＥＣＴ ＰＲＩＭＡＲＹ １ＭＩＮＨＷ０．２，０．２ ＳＥＬＥＣＴ ＰＲＩＭＡＲＹ ２ ＭＡＸＨＷ ０．８，０．８
（ＭＲＣ規則）
いくつかの実施形態では、ＭＲＣ規則ジェネレータ６１４は、形状発生からの寸法情報を使用して、プロトタイプインスタンス化６０２に関連した形状発生に一致する、マスクパターン記述における形状発生を識別するためにＭＲＣツールによって使用される、ＭＲＣ選択規則６１６を生成する。いくつかの実施形態では、ＭＲＣ規則ジェネレータ６１４は、プロトタイプインスタンス化６０２の内部間隔に基づいて、ＭＲＣ選択規則６１６を生成する。例えば、ＭＲＣ選択規則６１６は、０．４単位の最小寸法、および１．４単位の最大寸法を有する、プロトタイプインスタンス化６０２の内部間隔６０８に関連付けられる。他の実施形態では、ＭＲＣ規則ジェネレータ６１４は、プロトタイプインスタンス化６０２の輪郭形状に基づいて、ＭＲＣ選択規則６１６を生成する。] 図６
[0045] 図７は、本発明の実施形態に従って、フィルタ処理したマスクパターン記述７００のグラフィック表示を示す。フィルタ処理したマスクパターン記述７００は、ＣＡＴＳＳＥＬＥＣＴコマンドを元のマスクパターン記述に適用することによって生成される、フィルタ出力に対応する。フィルタ処理したマスクパターン記述７００は、プロトタイプインスタンス化の基本形状に一致する、基本形状を含む、分割形状インスタンス化７０２〜７１８を含む。] 図７
[0046] 一実施形態では、ＳＥＬＥＣＴコマンドは、プロトタイプインスタンス化の各基本形状を個別に考慮することによって、マスクパターン記述をフィルタリングすることができる。例えば、第１のＳＥＬＥＣＴコマンドは、基本形状７２０に対する一致する寸法を有する形状発生を識別することができ、識別された形状発生を含む第１の一時ファイルを生成することができる。同様に、第２のＳＥＬＥＣＴコマンドは、基本形状７２２に対する一致する寸法を有する形状発生を識別することができ、識別された形状発生を含む第２の一時ファイルを生成することができる。プロトタイプインスタンス化の他の基本形状に対して、さらなるコマンドを実行することができ、包括的ＯＲ分割ステップを使用して、フィルタ処理したマスクパターン記述７００を生成し、識別した基本形状を含む複数の一時ファイルをマージすることができる。]
[0047] 本実施形態に関するいくつかの変形例では、ＣＡＴＳ条件付き数字割り当て（Ｃｏｎｄｉｔｉｏｎａｌ Ｆｉｇｕｒｅ Ａｓｓｉｇｎｍｅｎｔ（ＣＦＡ））コマンドを使用して、ＳＥＬＥＣＴコマンドに類似するコマンドに基づいて、形状に数値でタグ付けすることを可能にし、タグ情報に基づいて、得られたファイルをフィルタリングすることができる。ＣＦＡコマンドを使用して、基本形状をその寸法情報でタグ付けすることで、プロトタイプインスタンス化における基本形状の数に関係なく、フィルタ処理したマスクパターン７００を２つの分割ステップで生成することができる。]
[0048] 図８Ａは、本発明の実施形態に従う一致発生出力８００のグラフィック表示を示す。一致発生出力８００は、ＭＲＣ選択規則をマスクパターン記述に適用することによって生成される。例示の目的で、マスクパターン記述を図８Ａにおいて点線で示す。一致発生出力８００は、多数の指標（例えば、形状発生指標８０２）を含み、識別した形状発生が、プロトタイプ形状発生が分割されたのと同様の方法で分割されたか否かにかかわらず、マスクパターン記述のプロトタイプ形状発生に一致する、形状発生を識別する。] 図８Ａ
[0049] 図８Ｂは、本発明に従う一致インスタンス化出力８１０のグラフィック表示を示す。一致インスタンス化出力８１０は、ＭＲＣ選択規則をフィルタ処理したマスクパターン記述に適用することによって生成される。例示の目的で、フィルタ処理したマスクパターン記述を図８Ｂにおいて点線で示す。一致インスタンス化出力８１０は、多数の指標（例えば、形状発生指標８１２）を含み、マスクパターン記述のプロトタイプ形状発生に一致し、プロトタイプ形状発生が分割されたのと同様の方法で分割された形状発生を識別する。] 図８Ｂ
[0050] 図８Ｃは、本発明の実施形態に従う一致発生出力８００と一致インスタンス化出力８１０との間の比較から得た比較結果８２０のグラフィック表示を示す。ＭＲＣ規則をフィルタ処理した処理したマスクパターン記述およびフィルタ処理されていないマスクパターン記述に適用することで、２組の形状発生指標を生成し、２つの組間の排他的ＯＲ比較は、プロトタイプ形状発生に類似するが、プロトタイプ形状発生の分割とは異なって分割された形状発生に対する指標を含む。] 図８Ｃ
[0051] いくつかの実施形態では、比較結果８２０は、一致発生出力と一致インスタンス化出力との間の排他的ＯＲ比較を含み、一致発生出力８００には存在しない一致インスタンス化出力８１０から形状発生を選択し、一致インスタンス化出力８１０には存在しない一致発生出力８００から形状発生を選択することによって生成され得る。比較結果８２０は、非均一性指標８２２を含み、プロトタイプ形状発生とは異なって分割された形状発生を示す。例示の目的で、マスクパターン記述を図８Ｃに点線で示す。] 図８Ｃ
[0052] 図８Ｄは、本発明の実施形態に従うマスクパターン記述上の非均一性指標８３２のグラフィックオーバーレイ８３０を示す。グラフィックオーバーレイ８３０は、マスクパターン記述のグラフィック表示、および多数の非均一性指標（例えば、非均一性指標８３２）を含む、比較結果のグラフィック表示を含む。比較結果のグラフィック表示をマスクパターン記述のグラフィック表示で重ね合わせることによって、グラフィックオーバーレイ８３０は、プロトタイプ形状発生の分割とは異なって分割されたマスクパターン記述の形状発生８３４の識別を容易にする。] 図８Ｄ
[0053] 図９は、本発明の実施形態に従う所望の構成とは異なる構成の基本形状に分割された、形状の発生を検出するための過程を示すフローチャートを提示する。システムは、マスクパターン記述から第１の形状の分割形状インスタンス化を選択することによって開始する（操作９０２）。分割形状インスタンス化は、第１の形状の分割を表し、特定の構成で配設されている一組の基本形状を含む。マスクパターン記述は、第１の形状の複数発生を含みる。次に、システムは、選択した分割形状インスタンス化に基づいて、マスクパターン記述からフィルタ処理したマスクパターン記述を生成する（操作９０４）。フィルタ処理したマスクパターン記述は、分割形状インスタンス化の一組の基本形状において、少なくとも１つの基本形状に一致する、マスクパターン記述における基本形状を含む。] 図９
[0054] 次に、システムは、第１の形状に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述において、第１の組の形状発生を識別し（操作９０６）、第１の形状に一致する、マスクパターン記述において、第２の組の形状発生を識別する（操作９０８）。次いで、システムは、第１の組の形状発生と第２の組の発生との間の排他的ＯＲ比較を含む、第３の組の形状発生を生成する（操作９１０）。すなわち、システムは、第２の組の形状発生には存在しない第１の組の形状発生からの形状発生を含み、第１の組の形状発生には存在しない第２の組の形状発生からの形状発生を含むように第３の組の形状発生を生成する。]
[0055] 図１０は、本発明の実施形態に従う図９の操作９０４について拡大する、フィルタ処理したマスクパターン記述を生成するための過程を示すフローチャートを示す。システムは、分割形状インスタンス化（操作１００２）からのそれぞれの基本形状に対して、基本形状の寸法情報に基づいて、選択規則を生成することによって開始する（操作１００４）。次いで、システムは、基本形状に一致する、マスクパターン記述における基本形状を識別するように、選択規則をマスクパターン記述に適用する（操作１００６）。次に、システムは、識別した基本形状を含むフィルタ処理したマスクパターン記述を生成する（操作１００８）。] 図１０ 図９
[0056] 図１１は、本発明の実施形態に従う第１の形状に一致する、マスクパターン記述およびフィルタ処理したマスクパターン記述における形状発生を識別するための過程を示すフローチャートを示す。システムは、第１の形状に基づいて、ＭＲＣツールに対する規則を生成することによって開始する（操作１１０２）。次いで、システムは、第１の形状に一致する、フィルタ処理したマスクパターン記述における第１の組の形状発生を識別するように、ＭＲＣツールの規則を適用する（操作１１０４）。システムは、第１の形状に一致する、マスクパターン記述における第２の組の形状発生も識別するように、ＭＲＣツールの規則を適用する（操作１１０６）。] 図１１
[0057] （コンピュータシステム）
図１２は、本発明の実施形態に従う所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された形状の発生の検出を容易にする、典型的なコンピュータシステムを示す。コンピュータシステム１２０２は、プロセッサ１２０４、メモリ１２０６、および記憶装置１２０８を含む。さらに、コンピュータシステム１２０２を、ディスプレイ装置１２１０および入力装置１２１１に連結することができる。] 図１２
[0058] 記憶装置１２０８は、オペレーティングシステム１２１２、均一性チェッカー１２１４、マスクパターン記述１２２６、プロトタイプインスタンス化１２２８、多数の非均一性指標１２３０、および非均一性レベル１２３２を格納する。均一性チェッカー１２１４は、グラフィックユーザインターフェース（ＧＵＩ）１２１６、基本形状フィルタ１２１８、プロトタイプ形状フィルタ１２２０、比較機構１２２２、およびオーバーレイ機構１２２４を含む。]
[0059] 動作中、均一性チェッカー１２１４は、記憶装置１２０８からメモリ１２０６にロードされ、プロセッサ１２０４によって実行される。均一性チェッカー１２１４は、マスクパターン記述１２２６およびプロトタイプインスタンス化１２２８を入力として取り、非均一性指標１２３０および非均一性レベル１２３２を生成する。いくつかの実施形態では、均一性チェッカー１２１４は、ユーザが、入力装置１２１１を使用することによって、プロトタイプインスタンス化１２２８を識別し、マスクパターン記述１２２６の分割形状発生を選択することを可能にする。いくつかの実施形態では、ＧＵＩモジュール１２１６は、ユーザが、分割形状インスタンス化の詳細を分析する必要なく、マスクパターン記述１２２６において非均一性分割形状インスタンス化を識別できるようにするための、マスクパターン記述１２２６上の非均一性指標１２３０のグラフィックオーバーレイを示す。]
[0060] （本発明の実施形態に関する変形例）
いくつかの実施形態では、均一性チェッカーを使用して、ＭＤＰ分割ソフトウェア上で回帰テストを実行することができる。均一性チェッカーを、ＭＤＰ分割ソフトウェアによって生成されたマスクパターン記述に適用して、所与の形状の分割が、所与の形状に対する多数の発生全体でどれほど均一であるかを決定することができる。回帰テスト中に、ＭＤＰ分割ソフトウェアの出力を予測される出力と比較することができる。これらの実施形態に関するいくつかの変形例では、非均一性分割形状インスタンス化の位置および品質を予測される結果と比較してもよい。他の変形例では、ＭＤＰ分割ソフトウェアにより生成される均一性レベルを予測される均一性レベルと比較してもよい。これらの比較の結果は、ＭＤＰ分割ソフトウェアが、該ソフトウェアの前のバージョンによって生成された結果と一致する、分割マスクパターン記述を生成するか否かを示し得る。]
[0061] いくつかの実施形態では、均一性チェッカーは、マスクパターン記述上に、非均一性指標のグラフィックオーバーレイを生成することができ、ユーザがマスクパターン記述の分割に関するマニュアルレビューを行うことを可能にする。グラフィックオーバーレイの非均一性指標は、ユーザが、分割形状インスタンス化の詳細を分析する必要なく、非均一性形状インスタンス化の検索において、マスクパターン記述をパンすることを可能にし、ユーザが、多数の非均一性分割形状インスタンス化を含むことが示される、マスクパターン記述の一部分にズームインすることを可能にする。]
[0062] 本発明の実施形態の前述の説明は、図示および説明目的のためだけに提示されてきた。これらは、本発明を網羅する、または本発明を開示される形態に制限することは意図されない。したがって、実践する当業者に、多くの修正および変形が明らかとなるであろう。さらに、上記の開示は、本発明を制限することは意図されない。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定義される。]

权利要求:

請求項1
所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割した形状の発生を検出するための方法であって、第１のマスクパターン記述において、分割形状インスタンス化を選択することであって、該分割形状インスタンス化は、第１の形状の分割を表し、該分割形状インスタンス化は、特定の構成で配設されている一組の基本形状を含み、該第１のマスクパターン記述は、該第１の形状の複数の発生を含む、ことと、該一組の基本形状における少なくとも１つの基本形状に一致する、該第１のマスクパターン記述における基本形状を含むフィルタ処理したマスクパターン記述を生成することと、該第１の形状に一致する、該フィルタ処理したマスクパターン記述からの第１の組の形状発生を識別することと、該第１の形状に一致する、該第１のマスクパターン記述からの第２の組の形状発生を識別することと、該第２の組の形状発生には存在しない該第１の組の形状発生からの形状発生と、該第１の組の形状発生には存在しない該第２の組の形状発生からの形状発生とを含む、第３の組の形状発生を生成することとを含み、該第３の組の形状発生は、該分割形状インスタンス化とは異なって分割された該第１の形状の発生を識別することを容易にする、方法。
請求項2
前記フィルタ処理したマスクパターン記述を生成することは、前記分割形状インスタンス化に基づいて、選択規則を生成することであって、該選択規則は、前記一組の基本形状における基本形状を識別するのに役立つように寸法情報を使用する、ことと、前記フィルタ処理したマスクパターン記述を取得するように該選択規則を前記第１のマスクパターン記述に適用することとを含む、請求項１に記載の方法。
請求項3
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から前記第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に基づいて、製造基準検査（ＭＲＣ）ツールのための規則を生成することを含む、請求項１に記載の方法。
請求項4
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する、該フィルタ処理したマスクパターン記述からの該第１の組の形状発生を識別するように、前記ＭＲＣツールのための前記規則を適用することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
請求項5
前記第１のマスクパターン記述から第２の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する、該第１のマスクパターン記述からの該第２の組の形状発生を識別するように、前記ＭＲＣツールのための前記規則を適用することを含む、請求項３に記載の方法。
請求項6
前記分割形状インスタンス化とは異なって分割された前記第１のマスクパターン記述における形状発生を示すように、前記第３の組の形状発生のグラフィック表示を該第１のマスクパターン記述のグラフィック表示と重ね合わせることをさらに含む、請求項１に記載の方法。
請求項7
前記第１のマスクパターン記述において、前記第１の形状がどれほど均一に分割されたかを示す、指標を生成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
請求項8
前記指標は、前記第３の組の形状発生における形状発生の数および該第３の組の形状発生において対応する形状を有する、前記第２の組の形状発生における形状発生の割合のうちの１つである、請求項７に記載の方法。
請求項9
コンピュータによって実行されると、該コンピュータに所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された形状の発生を検出するための方法を実行させる命令を記憶するコンピュータ可読記憶媒体であって、第１のマスクパターン記述において分割形状インスタンス化を選択することであって、該分割形状インスタンス化は、第１の形状の分割を表し、該分割形状インスタンス化は、特定の構成で配設されている一組の基本形状を含み、該第１のマスクパターン記述は、該第１の形状の複数の発生を含む、ことと、該一組の基本形状における少なくとも１つの基本形状に一致する、該第１のマスクパターン記述における基本形状を含むフィルタ処理したマスクパターン記述を生成することと、該第１の形状に一致する、該フィルタ処理したマスクパターン記述からの第１の組の形状発生を識別することと、該第１の形状に一致する該第１のマスクパターン記述からの第２の組の形状発生を識別することと、該第２の組の形状発生には存在しない該第１の組の形状発生からの形状発生と、該第１の組の形状発生には存在しない該第２の組の形状発生からの形状発生と、を含む、第３の組の形状発生を生成することとを含み、該第３の組の形状発生は、該分割形状インスタンス化とは異なって分割された該第１の形状の発生を識別することを容易にする、方法。
請求項10
前記フィルタ処理したマスクパターン記述を生成することは、前記分割形状インスタンス化に基づいて選択規則を生成することであって、該選択規則は、前記一組の基本形状における基本形状を識別するのに役立つように、寸法情報を使用することと、前記フィルタ処理したマスクパターン記述を取得するように該選択規則を前記第１のマスクパターン記述に適用することとを含む、請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項11
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に基づいて製造基準検査（ＭＲＣ）ツールのための規則を生成することを含む、請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項12
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する該フィルタ処理したマスクパターン記述からの該第１の組の形状発生を識別するように前記ＭＲＣツールのための前記規則を適用することをさらに含む、請求項１１に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項13
前記第１のマスクパターン記述から第２の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する、該第１のマスクパターン記述からの該第２の組の形状発生を識別するように、前記ＭＲＣツールのための前記規則を適用することを含む、請求項１１に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項14
前記分割形状インスタンス化とは異なって分割された前記第１のマスクパターン記述における形状発生を示すように前記第３の組の形状発生のグラフィック表示を該第１のマスクパターン記述のグラフィック表示と重ね合わせることをさらに含む、請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項15
前記方法は、前記第１のマスクパターン記述において、前記第１の形状がどれほど均一に分割されたかを示す指標を生成することをさらに含む、請求項９に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項16
前記指標は、前記第３の組の形状発生における形状発生の数および該第３の組の形状発生において対応する形状を有する、前記第２の組の形状発生における形状発生の割合のうちの１つである、請求項１５に記載のコンピュータ可読記憶媒体。
請求項17
所望の構成とは異なる基本形状の構成に分割された形状の発生を検出するための機器であって、第１のマスクパターン記述における分割形状インスタンス化を選択するように構成された選択機構であって、該分割形状インスタンス化は、第１の形状の分割を表し、該分割形状インスタンス化は、特定の構成で配設されている一組の基本形状を含み、該第１のマスクパターン記述は、該第１の形状の複数の発生を含む、選択機構と、該一組の基本形状における少なくとも１つの基本形状に一致する、該第１のマスクパターン記述における基本形状を含むフィルタ処理したマスクパターン記述を生成するように構成された基本形状フィルタと、該第１の形状に一致する、該フィルタ処理したマスクパターン記述からの第１の組の形状発生を識別し、該第１の形状に一致する、該第１のマスクパターン記述からの第２の組の形状発生を識別するように構成されたプロトタイプ形状フィルタと、第３の組の形状発生を生成するように構成された比較機構であって、該第３の組の形状発生は、該第２の組の形状発生には存在しない該第１の組の形状発生からの形状発生と、該第１の組の形状発生には存在しない該第２の組の形状発生からの形状発生とを含む、比較機構とを含み、該第３の組の形状発生は、該分割形状インスタンス化とは異なって分割された該第１の形状の発生を識別することを容易にする、機器。
請求項18
前記フィルタ処理したマスクパターン記述を生成することは、前記分割形状インスタンス化に基づいて選択規則を生成することであって、該選択規則は、前記一組の基本形状における基本形状を識別するのに役立つように寸法情報を使用する、ことと、該フィルタ処理したマスクパターン記述を取得するように該選択規則を前記第１のマスクパターン記述に適用することとを含む、請求項１７に記載の機器。
請求項19
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に基づいて、製造基準検査（ＭＲＣ）ツールのための規則を生成することを含む、請求項１７に記載の機器。
請求項20
前記フィルタ処理したマスクパターン記述から第１の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する、該フィルタ処理したマスクパターン記述からの該第１の組の形状発生を識別するように前記ＭＲＣツールの前記規則を適用することをさらに含む、請求項１９に記載の機器。
請求項21
前記第１のマスクパターン記述から第２の組の形状発生を識別することは、前記第１の形状に一致する、該第１のマスクパターン記述からの該第２の組の形状発生を識別するように前記ＭＲＣツールの前記規則を適用することを含む、請求項１９に記載の機器。
請求項22
前記第３の組の形状発生のグラフィック表示を、前記第１のマスクパターン記述のグラフィック表示と重ね合わせて前記分割形状インスタンス化とは異なって分割された、該第１のマスクパターン記述における形状発生を示すように構成されたオーバーレイ機構をさらに含む、請求項１７に記載の機器。
請求項23
前記コンパレータ機構は、前記第１のマスクパターン記述において、前記第１の形状がどれほど均一に分割されたかを示す指標を生成するようにさらに構成されている、請求項１７に記載の機器。
請求項24
前記指標は、前記第３の組の形状発生における形状発生の数および該第３の組の形状発生において対応する形状を有する、前記第２の組の形状発生における形状発生の割合のうちの１つである、請求項２３に記載の機器。